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    必威体育薄膜生长设备高真空镀膜机 > VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    • 产品名称: VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    • 上架时间: 2017-04-28
    • 产品编号: 03050101
    • 浏览次数: 1198

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    产品简介:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

     

    产品型号

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

    产品型号

    VTC-600-2HD

    安装条件

    本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

    2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

    3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀

    4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

    5、通风装置:需要

    主要特点

    1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

    2、可制备多种薄膜,应用广泛。

    3、体积小,操作简便。

    技术参数

    1、电源电压:220V  50Hz

    2、功率:<2KW(不含真空泵)

    3、极限真空度:9.0×10-4Pa

    4、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

    5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)

    6、靶枪冷却方式:水冷

    7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

    8、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源)

    9、载样台:Ø140mm

    10、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

    11、工作气体:Ar等惰性气体

    12、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。

    产品规格

    1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm

    2、整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm

    3、真空室规格:φ300×300mm

    4、重量:160kg

    标准配件

    1

    直流电源控制系统

    1套

    2

    射频电源控制系统

    1套

    3

    膜厚监测仪系统

    1套

    4

    分子泵(德国进口)

    1台

    5

    冷水机

    1台

    6

    冷却水管(Ø6mm)

    4根

    可选配件

    金、铟、银、白金等各种靶材

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作指导

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